Silisyòm Carbide Koule Plak

Silisyòm Carbide Koule Plak

Silisyòm carbure tablo koule se yon tablo sèten gwosè ki fèt ak seramik carbure Silisyòm, jeneralman yo itilize kòm mèb au fou.
Voye rechèch
Dekri teren

Silisyòm carbure tablo koule se yon tablo sèten gwosè ki fèt ak seramik carbure Silisyòm, jeneralman yo itilize kòm mèb au fou.


Karakteristik plak koule a

1. Bon antioksidan, li ka adapte yo ak atmosfè oksidasyon ak atmosfè rediksyon seramik. Nan ka operasyon nòmal ak tire nòmal, ka resikle lè l sèvi avèk plis pase 200-500 fwa

2. Segondè tanperati ak segondè konpresiv ak flexural fòs, san yo pa deformation

3. Li ka adapte yo ak refwadisman rapid ak chofaj, pa fasil krak lè w ap itilize

4. Plak koule SiC gen gwo dansite esansyèl, sifas lis, san yo pa gout salop lè w ap itilize

5. Sonnen nan tanperati tire soti nan 800 degre a 1000 degre

6. Segondè pwodwi fòs: anba menm espesifikasyon yo ak site la pou asire itilizasyon alontèm san deformation, epesè dal nou an se pi mens nan endistri a, sa ki ka maksimize to itilizasyon ak to ekonomize enèji nan fou a.


Aplikasyon

Seramik tabl, seramik sanitè, segondè vòltaj elektrik porselèn, seramik elektwonik, endistri wou fanm k'ap pile, endistri boul alumina mitan, riban amorphe, materyèl mayetik.


Chimik ak ak fizik nan pwopriyete

Konpozisyon chimik

Inite

SiC Pi gran pase oswa egal a 90 pousan

Aplikasyon tanperati maksimòm

degre

1550

Refractoriness

SK

39

Refractoriness anba chaj

T2 degre 0.2MPa

Pi gran pase oswa egal a 1750

Fòs modil nan tanperati chanm

g/cm2

Pi gran pase oswa egal a 500

Fòs modil nan 1400 degre

g/cm2

Pi gran pase oswa egal a 500

Fòs kraze frèt

G/cm2

Pi gran pase oswa egal a 1300

Ekspansyon tèmik nan 1000 degre

pousan

0.42-0.48

Aparan porosite

pousan

7-8

Dansite esansyèl

g/cm3

2.7-2.75

Konduktivite tèmik nan 1000 degre

Kcal/m.hr. degre

13.5-14.5


Baj popilè: Silisyòm carbure koule plak, Lachin, Swèd, faktori, wholesale, achte, nan stock

Voye rechèch

(0/10)

clearall